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PVD镀膜的具体原理是什么？
时间：2019-02-18 08:40
阅读：584
来源：互联网
物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。