新闻资讯
联系我们
联系人：吴经理
手 机：13390885336
传 真：0512-62820758
邮 箱：wq@pvdtc.com.cn
地 址：苏州自贸区工业园区淞北路45号4幢103室
PVD镀膜的具体原理是什么？
时间：2019-02-18 08:40
阅读：257
来源：互联网
物理气相沉积是一种物理气相反应生长法，沉积过程是在真空或低气气体放电条件下，涂层物质源是固态物质，经过“蒸发或溅射”后，在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。